半導體、集成電路用超純水系統(tǒng)
工藝流程
預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→中間水箱→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
應用領域
◆化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程
◆超純材料和超純化學試劑
◆實驗室和中試車間
◆電子半導體、集成電路板上用到的化工材料
◆石英、硅材料生產、加工、提純
◆高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水